星期六, 2月 21, 2026

全球NAND閃存市場分析重點(JP MORGAN)

核心成長驅動

  • 未來3年NAND市場TAM預計以年複合成長率(CAGR)**34%**加速擴張,遠高於過去25年平均約10%的水準
  • 成長動能來自:位元需求年增約20% + ASP年增約10%前段
  • 2027年NAND每Kwfpm產能對應營收預計達10.2萬美元(2025年預估為5.5萬美元)

需求結構轉變


應用領域
2024年佔比
2027年預估
成長特徵
eSSD(企業級)
~29%
~48%
AI推理驅動,CAGR 49%
智慧型手機/平板
~30%
~21%
成熟市場,容量升級為主
客戶端SSD
~18%
~15%
AI PC帶動溫和成長
USB/記憶卡
<5%
持續萎縮
利基市場

AI推理對儲存需求的結構性影響

  • KV快取技術成為關鍵:LLM推論過程中,Key-Value快取需高效存取,推動高性能eSSD需求
  • NVIDIA BlueField-4 DPU導入ICMS技術,可將外部儲存延遲降低5倍、能效提升5倍
  • AI伺服器儲存容量較通用伺服器高3-3.2倍,單機容量預計突破70TB

eSSD vs HDD經濟性分析


  • HDD在冷儲存/備份領域仍具成本優勢
  • SSD在熱數據、低延遲應用不可替代
  • 兩者呈互補關係而非完全替代

NAND vs DRAM 比較分析


指標
NAND
DRAM
資本密集度(2025-27E平均)
~16%
~26%
投資紀律
較嚴格
相對寬鬆
AI相關TAM成長率(24-27E)
+83%
+78%
2028年AI TAM規模預估
~700億美元
~2,200億美元
技術瓶頸
積層數提升挑戰
微縮物理極限

NAND行業因用途多元、技術差異化空間大,行業整合速度慢於DRAM,但主要廠商獲利能力正逐步改善。


技術發展趨勢


3D NAND積層競賽

  • 2026年主流:200-236層(TLC/QLC)
  • 領先佈局:SK海力士321層、鎧俠/WD 332層已進入量產準備
  • 層數提升帶來挑戰:高深寬比蝕刻、應力控制、字線電阻、單元效率

CBA(CMOS直接鍵合陣列)技術

  • 鎧俠BiCS技術核心:將CMOS周邊電路與NAND陣列分離製造後鍵合
  • 優勢:可分別優化邏輯製程(28nm→14nm)與儲存陣列製程,提升性能與密度
  • 代價:製程複雜度提升、設備投資增加

HBF(高頻寬閃存)潛在變數

  • SanDisk提出概念:結合NAND大容量與HBM高頻寬特性
  • 目標:AI推論應用,提供8-16倍於HBM的容量、相近頻寬
  • 時間表:2026下半年技術細節公開,2027上半年產品化
  • 風險:若商業化成功,可能擾動現有NAND供需格局

價格與獲利展望


ASP走勢預測




行業獲利能力復甦


  • 2026年NAND行業營業利潤率預估達30%後段(2025年約10%)
  • 主要廠商OP/bit(每bit營業利潤)轉正並持續擴大
  • eSSD佔比提升有助抵銷消費端需求疲軟風險


競爭格局與投資策略


市場份額(2024年預估)

  1. 三星電子:~30%
  2. 鎧俠/WD:~18%
  3. SK海力士(含Solidigm):~17%
  4. 美光:~12%
  5. 長江儲存:~10%

投資建議摘要



標的類型
建議標的
評級
核心邏輯
NAND專業廠商
鎧俠(285A.T)
Overweight
BiCS技術優勢、eSSD成長彈性大
綜合記憶體廠
三星(005930.KS)
Overweight
規模優勢、TLC主導地位
綜合記憶體廠
SK海力士(000660.KS)
Overweight
321層領先、Solidigm整合效益
綜合記憶體廠
美光(MU.US)
Overweight
垂直整合、232層TLC競爭力
設備商
東京電子(8035.T)
Overweight
蝕刻/薄膜設備需求穩健



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